संक्षिप्त परिचय
उत्पाद का नाम: हाफनियम टेट्राक्लोराइड
कैस नं।: 13499-05-3
यौगिक सूत्र: HFCL4
आणविक भार: 320.3
उपस्थिति: सफेद पाउडर
वस्तु | विनिर्देश |
उपस्थिति | सफेद पाउडर |
HFCL4+ZRCL4 | ≥99.9% |
Zr | ≤200ppm |
Fe | ≤40ppm |
Ti | ≤20ppm |
Si | ≤40ppm |
Mg | ≤20ppm |
Cr | ≤20ppm |
Ni | ≤25ppm |
U | ≤5ppm |
Al | ≤60ppm |
- हफ़्नियम डाइऑक्साइड अग्रदूत: हाफ़नियम टेट्राक्लोराइड का उपयोग मुख्य रूप से एक अग्रदूत के रूप में किया जाता है, जो हफ़नियम डाइऑक्साइड (HFO2) का उत्पादन करने के लिए एक उत्कृष्ट ढांकता हुआ गुणों के साथ एक सामग्री है। HFO2 व्यापक रूप से सेमीकंडक्टर उद्योग में ट्रांजिस्टर और कैपेसिटर के लिए उच्च-के ढांकता हुआ अनुप्रयोगों में उपयोग किया जाता है। HFCL4 हाफनियम डाइऑक्साइड की पतली फिल्मों को बनाने की क्षमता के कारण उन्नत इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के निर्माण में आवश्यक है।
- कार्बनिक संश्लेषण उत्प्रेरक: हाफ़नियम टेट्राक्लोराइड का उपयोग विभिन्न कार्बनिक संश्लेषण प्रतिक्रियाओं के लिए उत्प्रेरक के रूप में किया जा सकता है, विशेष रूप से ओलेफिन पोलीमराइजेशन। इसके लुईस एसिड गुण सक्रिय मध्यवर्ती बनाने में मदद करते हैं, जिससे रासायनिक प्रतिक्रियाओं की दक्षता में सुधार होता है। यह अनुप्रयोग रासायनिक उद्योग में पॉलिमर और अन्य कार्बनिक यौगिकों के उत्पादन में मूल्यवान है।
- परमाणु आवेदन: इसके उच्च न्यूट्रॉन अवशोषण क्रॉस सेक्शन के कारण, हाफनियम टेट्राक्लोराइड का व्यापक रूप से परमाणु अनुप्रयोगों में उपयोग किया जाता है, विशेष रूप से परमाणु रिएक्टरों के नियंत्रण छड़ में। हफ़नियम न्यूट्रॉन को प्रभावी ढंग से अवशोषित कर सकता है, इसलिए यह विखंडन प्रक्रिया को विनियमित करने के लिए एक उपयुक्त सामग्री है, जो परमाणु ऊर्जा उत्पादन की सुरक्षा और दक्षता में सुधार करने में मदद करता है।
- पतली फिल्म बयान: हाफ़नियम टेट्राक्लोराइड का उपयोग रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) प्रक्रियाओं में हाफ़नियम-आधारित सामग्रियों की पतली फिल्मों को बनाने के लिए किया जाता है। ये फिल्में विभिन्न प्रकार के अनुप्रयोगों में आवश्यक हैं, जिनमें माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक, ऑप्टिक्स और सुरक्षात्मक कोटिंग्स शामिल हैं। वर्दी, उच्च गुणवत्ता वाली फिल्मों को जमा करने की क्षमता उन्नत विनिर्माण प्रक्रियाओं में HFCL4 को मूल्यवान बनाती है।
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